Improvement of low-frequency noise behavior with chloridic precursor materials at ALD process uri icon Wissenschaftlicher Artikel

Überblick

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AutorInnen

  • Hessler, Daniel
  • Olivo, Ricardo
  • Baldauf, Tim
  • Seidel, Konrad
  • Hoffmann, Raik
  • Woo, Chaiwon
  • Lederer, Maximilian
  • Raffel, Yannick

Veröffentlichungszeitpunkt

  • 2024

Autor/in (verknüpft)

  • Baldauf, Tim  Professor für Theoretische Elektrotechnik / Optoelektronik

Open-Access-Kennzeichnung

  • Open Access

Peer Reviewed

  • Ja

Sprachen

  • englisch

Im Bibliotheksbestand

  • Ja Im Bibliotheksbestand

Identität

International Standard Serial Number (ISSN )

  • 27730646

Alma MMS-ID

  • 99493659702581

Anderes

Kuratierungs-Zielkategorie (intern)

  • Ja